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Artec Studio 17新功能
來(lái)源: | 作者:Mir Ly~ | 發(fā)布時(shí)間: 855天前 | 1894 次瀏覽 | 分享到:

Artec Studio 17新功能

解鎖*新三維數(shù)據(jù)掃描與處理軟件。一款軟件輕松應(yīng)對(duì)逆向工程、質(zhì)量檢驗(yàn)、計(jì)算機(jī)圖形等多種場(chǎng)景。

助力質(zhì)檢工作流程

借助全新掃描至CAD功能與工具,優(yōu)化質(zhì)檢流程,鎖定精密水平,無(wú)懼遠(yuǎn)距掃描。

掃描至CAD,更好服務(wù)掃描至CAD

即便是一模一樣的數(shù)字副本,若沒有準(zhǔn)確對(duì)齊至CAD參考模型,反會(huì)因?qū)R不當(dāng),導(dǎo)致檢測(cè)差異不可靠。因此,準(zhǔn)確對(duì)齊是計(jì)量學(xué)中的一條關(guān)鍵準(zhǔn)則。有了數(shù)據(jù)對(duì)齊功能,所有任務(wù)只需輕點(diǎn)數(shù)下,借助關(guān)鍵幾何特征,即可將網(wǎng)格完全對(duì)齊至CAD模型。

掃描至CAD,更好服務(wù)掃描至CAD

優(yōu)化標(biāo)記物支持,計(jì)量效果更佳

如掃描流程需使用標(biāo)記點(diǎn)、標(biāo)記球、棋盤等參照物完成數(shù)據(jù)配準(zhǔn),那新版Artec Studio能給您更自如的操控。新版軟件中,您可以直接將它們3D化后放入工作區(qū),選擇標(biāo)記球或標(biāo)記點(diǎn)進(jìn)行配準(zhǔn),測(cè)量間距,識(shí)別錯(cuò)位或遺失的點(diǎn),并從配準(zhǔn)過(guò)程中排除。此外,您還可以將多份參照標(biāo)記云導(dǎo)入工作區(qū),選擇追蹤要用的標(biāo)記物。

優(yōu)化標(biāo)記物支持,計(jì)量效果更佳

加快逆向工程

從布爾運(yùn)算到自由、有機(jī)形狀掃描至CAD的全自動(dòng)轉(zhuǎn)換,*新逆向工程必備工具將簡(jiǎn)化設(shè)計(jì)與制造工作流程。

自動(dòng)表面處理

借助全新自動(dòng)表面處理功能,一鍵將復(fù)雜有機(jī)形狀轉(zhuǎn)換成實(shí)體CAD模型。簡(jiǎn)化復(fù)雜幾何逆向工程流程,創(chuàng)建CAD參照模型,便于在第三方CAD軟件進(jìn)行深度逆向工程操作。

自動(dòng)表面處理

布爾運(yùn)算

使用并集、差集、交集等業(yè)內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)布爾運(yùn)算,通過(guò)CAD實(shí)體和網(wǎng)格優(yōu)化模型。建立模具、復(fù)雜形狀,微調(diào)網(wǎng)格,緊貼設(shè)計(jì)藍(lán)圖。

布爾運(yùn)算

獨(dú)立CAD形狀

不同于上一版本,全新設(shè)置讓您輕松在網(wǎng)格任意部位創(chuàng)建、移動(dòng)實(shí)體外形圖元,并調(diào)整大小。僅需選中您需添加的圖元即可,例如全新立方體(盒子),無(wú)需劃定需要擬合的區(qū)域。

獨(dú)立CAD形狀

約束功能2.0

新版軟件處理CAD圖元約束時(shí),更為方便。Artec Studio能保留每個(gè)圖元相關(guān)的條件和關(guān)系,您可隨時(shí)保存、編輯、重新擬合,不在建造面板也無(wú)妨。此外,您還可以在之前創(chuàng)建的約束上新增約束。

約束功能2.0

為3D打印拆分網(wǎng)格

對(duì)增材制造專業(yè)人士而言,有了按平面分割功能,為3D打印準(zhǔn)備網(wǎng)格變得分外輕松。您可以通過(guò)預(yù)擬合平面,快速準(zhǔn)確地將網(wǎng)格分割為便于管理的組塊,用于3D打印。

為3D打印拆分網(wǎng)格

優(yōu)化分割刷功能

常用選擇功能繼續(xù)優(yōu)化,您可以用分割靈敏度滑塊,動(dòng)態(tài)調(diào)整所選區(qū)域的大小。對(duì)需要構(gòu)建CAD圖元的區(qū)域做好標(biāo)記,用滑塊調(diào)整擴(kuò)展區(qū)域的程度。

優(yōu)化分割刷功能

完善CGI三維模型紋理

全新相片查看模式、相片自動(dòng)分割等功能更新,助力掃描+相片紋理處理功能。

得益于優(yōu)化后的相片紋理算法,相片處理變得更加便捷?,F(xiàn)在,您可以通過(guò)全新相片查看模式,預(yù)覽即將用于紋理處理的相片,查看是否合適。您可刪除帶有瑕疵、過(guò)渡曝光、光線或角度不佳的任何相片,及時(shí)感受*終紋理效果。在新算法的加持下,圖像將根據(jù)尺寸、相機(jī)類型、焦距進(jìn)行編組,您可單獨(dú)配準(zhǔn),也能同時(shí)用于紋理加工。

加速整套流程

用戶界面與用戶體驗(yàn)功能大范圍升級(jí),進(jìn)一步優(yōu)化掃描處理流程。

Leo HD數(shù)據(jù)重建速率提升1.5倍

Leo HD數(shù)據(jù)重建速率提升1.5倍

原以速度著稱的三維掃描儀繼續(xù)提速1.5倍,讓您更快獲得所需3D數(shù)據(jù),專注于設(shè)計(jì)、工程、檢驗(yàn)等更重要的任務(wù)上。目前,專利算法繼續(xù)優(yōu)化,Leo獲取HD數(shù)據(jù)的速度提升1.5倍,給您高度清晰、整潔的3D掃描。
為GPU優(yōu)化重建速度

為GPU優(yōu)化重建速度

這項(xiàng)新增功能可測(cè)試計(jì)算機(jī)顯卡性能,協(xié)助調(diào)整HD模式設(shè)置,以完美貼合所需參數(shù)。和默認(rèn)設(shè)置相比,Leo和Eva的HD數(shù)據(jù)重建速率更快。
通過(guò)對(duì)象選擇

通過(guò)對(duì)象選擇

得益于全新橡皮擦選擇模式“對(duì)象選擇”,網(wǎng)格編輯流程目前速度更快。僅需選中網(wǎng)格相應(yīng)部分并移除,即可輕松擦除多余部分。
排除融合模型中的錯(cuò)誤幀

排除融合模型中的錯(cuò)誤幀

更新后的掃描處理算法中,任何配準(zhǔn)錯(cuò)誤幀都不會(huì)進(jìn)入處理流程。新功能幫您避免模型中的多余部分和偽影,為后期處理與網(wǎng)格編輯節(jié)省時(shí)間。
處理提速10%,內(nèi)存占用率降低30%

處理提速10%,內(nèi)存占用率降低30%

得益于融合算法更新,全新處理流程,速度提升10%,RAM占用率降低30%。
全新孔填補(bǔ)功能

全新孔填補(bǔ)功能

孔填補(bǔ)算法更新后,您可以為模型上的缺失部位快速添加曲面片,絲滑流暢,渾然天成。您還可以在填補(bǔ)孔功能下選擇平坦和順滑兩類,精準(zhǔn)修復(fù)缺失表面。
快速恢復(fù)未保存項(xiàng)目

快速恢復(fù)未保存項(xiàng)目

由于任何原因,導(dǎo)致Artec Studio項(xiàng)目崩潰,都無(wú)需擔(dān)心。下次啟動(dòng)時(shí),即便您有未保存的修改,軟件也會(huì)提示您恢復(fù)。不用擔(dān)心數(shù)據(jù)丟失!
個(gè)性化工作區(qū)域

個(gè)性化工作區(qū)域

調(diào)整面板布局,定制您的個(gè)性化Artec Studio工作區(qū)。所有面板都能從主窗口分離,只需點(diǎn)擊后拖拽至指定工作區(qū)域即可。
單次上傳多個(gè)Artec Leo項(xiàng)目

單次上傳多個(gè)Artec Leo項(xiàng)目

處理多個(gè)Leo項(xiàng)目?現(xiàn)支持將多個(gè)Artec Leo項(xiàng)目導(dǎo)入Artec Studio,您可以在工作區(qū)域輕松處理或切換項(xiàng)目。